掩模對準曝光機又名光刻機，用光來(lái)制作一個(gè)圖形工藝，將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過(guò)程將器件或電路結構臨時(shí)復制到硅片上的過(guò)程。半導體制造過(guò)程中復雜也是難的步驟就是光刻，光刻機也因此成為重要的半導體制造設備，研發(fā)的技術(shù)門(mén)檻和資金門(mén)檻非常高，是復雜的機器之一。

 

　　掩模對準曝光機一般根據操作的簡(jiǎn)便性分為三種，手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)

　　1、手動(dòng)：指的是對準的調節方式，是通過(guò)手調旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來(lái)完成對準，對準精度可想而知不高了；

　　2、半自動(dòng)：指的是對準可以通過(guò)電動(dòng)軸根據CCD的進(jìn)行定位調諧；

　　3、自動(dòng)： 指的是 從基板的上載下載，曝光時(shí)長(cháng)和循環(huán)都是通過(guò)程序控制，自動(dòng)光刻機主要是滿(mǎn)足工廠(chǎng)對于處理量的需要。

　　掩模對準曝光機的對準系統：

　　制造高精度的對準系統需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產(chǎn)設備*的技術(shù)難點(diǎn)之一，許多美德品牌的設備具有特殊的機械工藝設計。

　　對準系統另外一個(gè)技術(shù)難題就是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視場(chǎng)，許多的設備，采用了LED照明。

　　對準系統共有兩套，具備調焦功能。主要就是由雙目雙視場(chǎng)對準顯微鏡主體、目鏡和物鏡各1對。

　　CCD對準系統作用是將掩模和樣片的對準標記放大并成像于監視器上。

　　工件臺顧名思義就是放工件的平臺，光刻工藝主要的工件就是掩模和基片。

　　工件臺為掩模對準曝光機的一個(gè)關(guān)鍵，由掩模樣片整體運動(dòng)臺（XY）、掩模樣片相對運動(dòng)臺（XY）、轉動(dòng)臺、樣片調平機構、樣片調焦機構、承片臺、掩模夾、抽拉掩模臺組成。

　　其中，樣片調平機構包括球座和半球。調平過(guò)程中首先對球座和半球通上壓力空氣，再通過(guò)調焦手輪，使球座、半球、樣片向上運動(dòng)，使樣片與掩模相靠而找平樣片，然后對二位三通電磁閥將球座和半球切換為真空進(jìn)行鎖緊而保持調平狀態(tài)。

　　樣片調焦機構由調焦手輪、杠桿機構和上升直線(xiàn)導軌等組成，調平上升過(guò)程初步調焦，調平完成鎖緊球氣浮后，樣片和掩模之間會(huì )產(chǎn)生一定的間隙，因此必須進(jìn)行微調焦。另一方面，調平完成進(jìn)行對準，必須分離一定的對準間隙，也需要進(jìn)行微調焦。

　　抽拉掩模臺主要用于快速上下片，由燕尾導軌、定位擋塊和鎖緊手輪組成。

　　承片臺和掩模夾是根據不同的樣片和掩模尺寸而進(jìn)行設計的。