首CHUANG的解決方案將SwissLitho NanoFrazo系統的高分辨率和3D打印功能與EVG的SmartNIL®技術(shù)的高產(chǎn)量和成本效益相結合
面向 MEMS、納米技術(shù)和半導體市場(chǎng)的晶圓鍵合和光刻設備的領(lǐng)仙供應商 EVG與新型納米光刻技術(shù)制造商 SwissLitho AG 宣布推出聯(lián)合解決方案,可生產(chǎn)最小到單納米級的 3D 結構。這一方案在歐盟第七框架計劃資助的“超越CMOS器件的單納米制造(SNM)"項目中進(jìn)行了shouci演示,涉及SwissLitho的新型NanoFrazor熱掃描探針光刻系統和EVG的HERCULES® NIL 系統,前者可制作具有納米壓印光刻(NIL)的3D結構的壓印母板,后者采用 SmartNIL® 技術(shù)來(lái)高效地量產(chǎn)這些結構。
目標應用
EVG和SwissLitho最初的目標是開(kāi)發(fā)衍射光學(xué)元件和其他相關(guān)光學(xué)組件,以支持光子學(xué)、數據通信、增強/虛擬現實(shí)(AR / VR)和其他應用,并有可能擴展到生物技術(shù)、納米流體和其他納米技術(shù)應用。
作為聯(lián)合解決方案的一部分,SwissLitho的NanoFrazo系統將用于創(chuàng )建壓印母版。與傳統方法(包括電子束和灰度光刻)相比,運用這一新技術(shù)打印3D結構可實(shí)現wuyulunbi的精度。創(chuàng )建生產(chǎn)過(guò)程中的工作模板則由EVG的HERCULES NIL系統來(lái)完成,它采用EVG duyou的大面積納米壓印SmartNIL技術(shù),jiju成本效益。
EVG企業(yè)技術(shù)總監Thomas Glinsner博士指出:“SwissLitho的NanoFrazor方案與EVG的SmartNIL技術(shù)高度互補。我們可以攜手為光子學(xué)和其他涉及3D 結構圖案的應用提供完整的NIL解決方案,為兩家公司擴大客戶(hù)群和市場(chǎng)范圍提供重要機會(huì )。NILPhotonics®技術(shù)中心將成為對此感興趣的客戶(hù)的第一選擇,我們將會(huì )提供可行性研究、方案演示和中試服務(wù)?!?/p>
技術(shù)細考
NanoFrazor背后的熱掃描探針光刻技術(shù),由蘇黎世的IBM研究院發(fā)明,后來(lái)被SwissLitho AG收購。這種無(wú)掩模、直接寫(xiě)入光刻方法是在圖案化之前將dute的熱敏光刻膠旋涂到樣品表面。然后使用加熱的超尖探針局部分解和蒸發(fā)光刻膠,同時(shí)檢查寫(xiě)入的納米結構;接下來(lái)使用剝離、蝕刻、電鍍、模塑或其他方法將產(chǎn)生的任意光刻膠圖案轉移到任何其他材料中。
“我們開(kāi)發(fā)了NanoFrazor系列,為昂貴的電子束光刻系統提供高性能、經(jīng)濟實(shí)惠的替代方案,"SwissLitho的shouxi執行官Felix Holzner博士說(shuō)?!霸擁椉夹g(shù)允許在一個(gè)步驟中制造具有許多'層級'的母版。尤其是與傳統的電子束或灰度光刻方法相比,具有單納米精度的3D結構能夠更容易地制造出來(lái),且保真度更高。我們期待著(zhù)在奧地利的NILPhotonic技術(shù)中心與客戶(hù)一道工作,將我們的技術(shù)與EVG的SmartNIL工藝進(jìn)行成功的結合。
HERCULES NIL將EVG在NIL,光刻膠加工和大批量制造解決方案領(lǐng)域積累的專(zhuān)業(yè)知識整合到一個(gè)集成系統中,為200毫米晶圓提供高達40片每小時(shí)的產(chǎn)量。該系統的可配置模塊化平臺可適應各種壓印模塊和結構尺寸,使客戶(hù)在滿(mǎn)足其制造需求方面具有更大的靈活性。此外,它能夠制作多用途軟印章,有助于延長(cháng)壓印母板的使用壽命。
關(guān)于 SwissLitho
SwissLitho是一家屢獲殊榮的初創(chuàng )公司,成立于2012年,其愿景是chedi改變納米制造。該公司開(kāi)發(fā)、制造和銷(xiāo)售一種新型無(wú)掩模納米光刻技術(shù),具有高分辨率和dute的功能,如 3D 圖案化和原位計量,有可能取代和擴展電子束光刻等傳統圖案化技術(shù)??蛻?hù)使用SwissLitho dute的NanoFrazor工具來(lái)制造新型的電氣,光學(xué),磁性和生物納米器件,這些器件以前是無(wú)法制造的。
關(guān)于EVG
EV Group (EVG) 是為半導體、微機電系統 (MEMS)、化合物半導體、功率器件和納米器件制造提供大批量生產(chǎn)設備和工藝解決方案的領(lǐng)仙供應商。主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓加工和光刻/光刻納米壓印 (NIL) 設備,光刻膠涂布機,以及清潔和檢測/計量系統。EVG 成立于 1980 年,為全球各地的客戶(hù)和合作伙伴提供服務(wù)和支持。