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ThetaMetrisis膜厚儀用于氧化釔 (Y2O3) 涂層厚度測量

更新時(shí)間:2022-11-24  |  點(diǎn)擊率:1706

接下來(lái)為大家介紹ThetaMetrisis膜厚儀在氧化釔(Y2O3)涂層厚度方面的測量應用。

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ThetaMetrisis膜厚儀可快速準確地繪制大尺寸氧化鋁陶瓷圓盤(pán)上的抗等離子涂層Y2O3厚度。


1、案例介紹

集成電路特征尺寸的持續縮小,對化學(xué)機械拋光后的平整度要求日益提高。氧化釔(Y2O3)是一種非常有前景的抗等離子涂層材料,可作化學(xué)機械拋光(CMP)磨料,應用十分廣泛。因其優(yōu)異的溫度穩定性和對具有高氧親和力的堿性熔體的出色耐受性,Y2O3被用在許多特殊材料上,例如絕緣體、玻璃、導電陶瓷、耐火材料、著(zhù)色劑,各種領(lǐng)域的透光材料如透鏡、棱鏡或玻璃等;它也可作為金屬-鐵電-絕緣體-半導體中合適的緩沖層,用于單晶體管FeRAM的結構。

在本案例中,ThetaMetrisis FR-Scanner機型將用于測量氧化鋁陶瓷盤(pán)上Y2O3的厚度分布。▼

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2、目的和方法

樣品是一個(gè)直徑為560mm,表面帶有Y2O3層的氧化鋁圓盤(pán)。測量采用FR-Scanner VIS/NIR機型,光譜范圍 370nm-1020nm,可測量的涂層厚度為15nm 100um。該機型通過(guò)旋轉自動(dòng)平臺和線(xiàn)性移動(dòng)樣品(極座標掃描),對待測樣品的厚度分布圖進(jìn)行測繪,通過(guò)軟件生成的最終圖案包含了樣品表面 (R, theta) 位置的208個(gè)點(diǎn)。


3、測量結果
在下面的圖像中,Y2O3層的理論值(紅線(xiàn))和樣品表面反射光譜(綠線(xiàn))與厚度分布圖一并呈現說(shuō)明,如FR-Scanner軟件上所見(jiàn),樣品經(jīng)過(guò)數次重復性?huà)呙铚y量以確定工具的準確性和可重復性,并得出右側統計數據。
氧化鋁陶瓷圓盤(pán)頂部Y2O3層的厚度分布▼

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Y2O3厚度分布統計

平均厚度:10.24um
最小厚度:8.27um
最大厚度:10.58um
非均勻性:±11.29%


4、結論

使用FR-Scanner成功的測量氧化鋁陶瓷盤(pán)的Y2O3層的厚度分布。通過(guò)厚度測量并分析統計區域的厚度分布和均勻性,快速且無(wú)損地測量了薄膜厚度以保護陶瓷部件在等離子腔體中不受損壞。FR-Scanner是一種快速、準確測量大面積或預選位置上薄膜或疊層薄膜的優(yōu)選解決方案。






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