接觸式光刻機是一種用于信息科學(xué)與系統科學(xué)、能源科學(xué)技術(shù)、電子與通信技術(shù)領(lǐng)域的工藝試驗儀器。

 

　　主要構成：

　　主要由對準工作臺、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統、LED曝光頭、PLC電控系統、氣動(dòng)系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

 

　　接觸式光刻機的使用原理：

　　其實(shí)在我國對于接觸式光刻機，曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設備制造出較小的特征尺寸。

　　我們也許不知道接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達到了小于0.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5 gm左右。接觸式光刻機的掩模版包括了要復制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個(gè)由手動(dòng)控制的臺子上，臺子可以進(jìn)行X、y方向及旋轉的定位控制。

　　在操作過(guò)程中掩模版和襯底晶片需要通過(guò)分立視場(chǎng)的顯微鏡同時(shí)觀(guān)察，這樣操作者用手動(dòng)控制定位臺子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對準了。經(jīng)過(guò)紫外光曝光，光線(xiàn)通過(guò)掩模版透明的部分，圖形就轉移到了光刻膠上。接觸式光刻機的主要缺點(diǎn)是依賴(lài)于人操作，由于涂覆光刻膠的圓片與掩模的接觸會(huì )產(chǎn)生缺陷，每一次接觸過(guò)程，會(huì )在圓片和掩模上都造成一定的缺陷。因此，接觸式光刻機一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其他應用方面。