EVG720 系統利用 EVG 創(chuàng )新的 SmartNIL 技術(shù)和材料專(zhuān)業(yè)知識，實(shí)現微米級和納米級結構的大規模制造。EVG720 系統采用 SmartNIL 技術(shù)，能夠在大面積上打印小至 40 nm* 的納米結構，具有較大的吞吐量和較低的擁有成本，非常適合下一代微流控和光子器件（如衍射光學(xué)元件 （DOE））的批量生產(chǎn)。

*分辨率取決于工藝和模板

特點(diǎn)

· 具有復制保真度的批量驗證印記技術(shù)

· 成熟的SmartNIL技術(shù)與多用途聚合物沖壓技術(shù)®

· 集成壓印，UV固化脫模，和工作印章制作

· 自動(dòng)磁帶到磁帶處理加上半自動(dòng)化的研發(fā)模式

· 可選的頂部對齊

· 可選的迷你環(huán)境

· 開(kāi)放平臺的所有商業(yè)可用的印記材料

· 從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴展性

· 系統外殼，最佳的過(guò)程穩定性和可靠性

技術(shù)數據

晶圓直徑（襯底尺寸）：75至150毫米

分辨率：≤ 40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

過(guò)程支持：SmartNIL®

曝光源：大功率LED（i-線(xiàn)）> 40mW/cm2

對齊：可選頂部對中

自動(dòng)分離：支持

迷你環(huán)境和氣候控制：可選

工作印章制作：支持