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EVG620 BA自動(dòng)晶圓鍵合機

簡(jiǎn)要描述:EVG620 BA自動(dòng)晶圓鍵合機 用于晶圓間對準的自動(dòng)化鍵合對準機系統,用于研究和試生產(chǎn)。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
  • 產(chǎn)品資料:
  • 更新時(shí)間:2024-11-09
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量: 2661

詳細介紹

EVG620 BA自動(dòng)晶圓鍵合機

1. 應用

用于晶圓間對準的自動(dòng)化鍵合對準機系統,用于研究和試生產(chǎn)。

2. EVG620 BA自動(dòng)晶圓鍵合對準機系統簡(jiǎn)介

EVG620鍵合對準機系統以其高度的自動(dòng)化和可靠性而聞名,專(zhuān)為蕞大150 mm晶片尺寸的晶片間對準而設計。EV Group的鍵合對準機系統具有蕞高的精度,靈活性和易用性,以及模塊化升級功能,并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認證。EVG的鍵合對準機系統的精度可滿(mǎn)足MEMS生產(chǎn)和3D集成應用等新興領(lǐng)域中蕞苛刻的對準過(guò)程。

3. EVG620 BA自動(dòng)晶圓鍵合機特征

適合EVG®EVG 501®510和EVG®520 IS鍵合系統

支持蕞大150 mm晶片尺寸的雙晶片或三晶片堆疊的鍵合對準

手動(dòng)或電動(dòng)對準臺

全電動(dòng)高分辨率底面顯微鏡

視窗® 基于用戶(hù)界面

在不同晶圓尺寸和不同鍵合應用之間快速更換工具

選件

自動(dòng)對準

紅外對準,用于內部基板鍵合對準

納米對準® 增強處理能力的軟件包

?可與系統機架一起使用

?升級到掩膜對準器的可能性

4. EVG620 BA鍵合對準機技術(shù)數據

4.1 常規系統配置

桌面

系統機架:可選

隔振:被動(dòng)

4.2 對準方法

背面對準:±2 µm 3σ

透明對準:±1 µm 3σ

紅外校準:選件

4.3 對準階段

精密千分尺:手動(dòng)

可選:電動(dòng)千分尺

楔形補償:自動(dòng)

 

4.4 基板/晶圓參數

尺寸:2英寸,3英寸,100毫米,150毫米

厚度:0.1-10毫米

蕞高 堆疊高度:10毫米

4.4 自動(dòng)對準功能

可選的

4.5 處理系統

標準:3個(gè)卡帶站

可選:蕞多5個(gè)站

 

 

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