光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標移動(dòng)平臺，可以在幾秒鐘的時(shí)間內快速的定位所需測試的點(diǎn)并測試厚度，可隨意選擇一種或極坐標形、或方形、或線(xiàn)性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測試點(diǎn)。針對不同的晶圓尺寸，盒對盒系統可以很容易的自動(dòng)轉換，匹配當前盒子的尺寸。49點(diǎn)的分布圖測量只需耗時(shí)約45秒。用激光粒度分布儀測試膠體的粒度分布時(shí)應配合其它檢測手段驗證測試結果的準確性，同時(shí)應使用去離子水作為分散介質(zhì)，防止自來(lái)水中的電解質(zhì)造成顆粒團聚影響測試結果。適用于已知折射率的單一物質(zhì)粒度分布測試，因此測試前要知道被測樣品的折射率，折射率選取的不同會(huì )對測試結果造成一定的影響。

　　光學(xué)膜厚儀的主要特點(diǎn)：基片折射率和消光系數測量；薄膜厚度測量，平均值和標準偏差分析；薄膜折射率和消光系數測量;適用于不用材質(zhì)和厚度的薄膜、涂層和基片；測試數據輸出和加載；直接Patterned或特征機構的試樣測試；可用于實(shí)時(shí)在線(xiàn)薄膜厚度、折射率監測；波長(cháng)范圍可選；系統配備強大的光學(xué)常數庫和材料數據庫，便于測試和數據分析。

　　光學(xué)膜厚儀廣泛應用于各種薄膜，并且還有半導體液晶顯示器等一系列的材料和產(chǎn)品的測量。一般的產(chǎn)品我們可以拿尺來(lái)進(jìn)行測量，對精度要求也不高。但是對薄膜等產(chǎn)品來(lái)說(shuō)，精度是關(guān)系到產(chǎn)品的組裝和性能的，所以一定要測量。測量?jì)x不僅能夠準確的進(jìn)行測量，還能及時(shí)的顯示出數據。

　　其次可以計算薄膜厚度，一般采用光干涉法，薄膜表面或界面的反射光會(huì )與從基底的反射光相干涉，干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數等有關(guān)，因此可通過(guò)計算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無(wú)損、快速的光學(xué)薄膜厚度測量技術(shù)，我們的薄膜測量系統采用光干涉原理測量薄膜厚度。

　　再次，就是操作方便，效率較高。這種優(yōu)勢對于薄膜測試的時(shí)候是非常重要的，畢竟薄膜測試是一種比較枯燥的工作，如果測試又比較繁雜的話(huà)，會(huì )使人心情焦躁，難免會(huì )影響測試時(shí)間和測試結果。而操作方便，容易上手，幾秒鐘內即可完成測量和數據分析，發(fā)展潛力巨大。