光刻技術(shù)與我們的生活息息相關(guān)，我們用的手機、電腦等各種各樣的電子產(chǎn)品，里面的芯片制作離不開(kāi)光刻技術(shù)。如今的世界是一個(gè)信息社會(huì )，而光刻技術(shù)是制造承載信息的載體的關(guān)鍵技術(shù)，具有不可替代的作用。

一、光刻技術(shù)的原理

光刻就是把芯片制作所需要的線(xiàn)路與功能區做出來(lái)。利用光刻機上紫外光源發(fā)出的光通過(guò)具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見(jiàn)光后會(huì )發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上的圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線(xiàn)路圖的作用。

這就是光刻的作用，類(lèi)似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。

光刻技術(shù)是一種精密的微細加工技術(shù)。常規光刻技術(shù)是采用波長(cháng)為2000～4500埃的紫外光通過(guò)光掩膜版后作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑為中間媒介，實(shí)現圖形的變換、轉移和處理，然后把圖像信息傳遞到晶片（主要指硅片）或介質(zhì)層上的一種工藝。

廣義上，光刻包括光復印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面：

1、光復印工藝：經(jīng)曝光系統將預制在掩模版上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光致抗蝕劑薄層上。

2、刻蝕工藝：利用化學(xué)或物理方法，將抗蝕劑薄層未掩蔽的晶片表面或介質(zhì)層除去，從而在晶片表面或介質(zhì)層上獲得與抗蝕劑薄層圖形完quan一致的圖形。集成電路各功能層是立體重疊的，因而光刻工藝總是多次反復進(jìn)行。例如，大規模集成電路要經(jīng)過(guò)約10次光刻才能完成各層圖形的全部傳遞。

二、紫外壓印光刻技術(shù)（UV-NIL)

紫外壓印工藝是將單體涂覆的襯底和透明印章裝載到對準機中, 在真空環(huán)境下襯底和印章被固定在各自的卡盤(pán)上，當兩者的光學(xué)對準完成后, 開(kāi)始接觸壓印，透過(guò)印章的紫外曝光促使壓印區域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型。

與熱壓印技術(shù)相比, 紫外壓印對環(huán)境要求更低, 僅在室溫和低壓力下就可進(jìn)行。使用該技術(shù)能縮短生產(chǎn)周期, 同時(shí)減小印章磨損。由于工藝過(guò)程的需要, 制作紫外壓印印章要求使用能被紫外線(xiàn)穿過(guò)的材料，如玻璃、石英等。