Thetametrisis膜厚測量?jì)x用于氧化釔（Y?O?）涂層厚度測量。它可快速準確地繪制大型氧化鋁陶瓷圓盤(pán)上的抗等離子涂層Y?O?層厚度。下面我們來(lái)看看用Thetametrisis膜厚測量?jì)x測量氧化釔（Y?O?）涂層厚度的具體情況。
Thetametrisis膜厚測量?jì)x測量氧化釔（Y?O?）的案例分析：
氧化釔（Y?O?）是一種非常有前景抗等離子涂層材料，且在集成電路中特征尺寸的持續減小應用在化學(xué)機械拋光后的高度平整工藝用作化學(xué)機械平面化（CMP）的磨料，具有獷泛的應用范圍。氧化釔（Y?O?）由于其較高的溫度穩定性和對具有高氧親和力的堿性熔體的出色耐受性，還用于許多特殊應用，例如絕緣體、玻璃、導電陶瓷、耐火材料、著(zhù)色劑。其他應用包括各種領(lǐng)域的透光材料，例如透鏡、棱鏡或玻璃，作為金屬-鐵電-絕緣體-半導體中合適的緩沖層，用于單晶體管 FeRAM 的結構。在本應用說(shuō)明中，Thetametrisis膜厚測量?jì)x用于在自動(dòng)測量氧化鋁陶瓷盤(pán)上氧化釔的厚度分布圖。
為什么使用它，有什么目的和方法：
被測量的樣品是一個(gè)直徑為560mm表面帶有氧化釔（Y?O?）層的氧化鋁圓盤(pán)。使用Thetametrisis膜厚測量?jì)x進(jìn)行測量，光譜范圍為370nm-1020nm，能夠測量15nm至100um的涂層厚度。該機型通過(guò)旋轉和線(xiàn)性載物臺移動(dòng)樣品來(lái)繪制待測樣品厚度分布圖。通過(guò)軟件行成的圖案包括樣品表面（R，theta）位置的208個(gè)點(diǎn)。
儀器的測量結果：
在下面的圖像中，氧化釔（Y?O?）層的理論值（紅線(xiàn)）和樣品表面反射光譜（綠線(xiàn)）與厚度分布圖一并呈現說(shuō)明，如軟件上所見(jiàn)，樣品經(jīng)過(guò)數次重復性?huà)呙铚y量以確定工具的準確性和可重復性，并得出統計數據。
結論：
使用Thetametrisis膜厚測量?jì)x成功的測量鋁陶瓷盤(pán)的氧化釔（Y?O?）層的厚度分布。通過(guò)厚度測量并分析統計區域的厚度分布和均勻性，快速且無(wú)損地測量了薄膜厚度以保護陶瓷部件在等離子腔體中不受損壞。Thetametrisis膜厚測量?jì)x是一種快速、準確測量大面積或預選位置上薄膜或疊層薄膜解決方案。
