顯微鏡秒變光刻機！-- 顯微鏡LED曝光單元

電子顯微鏡和光刻機，兩個(gè)看上去風(fēng)馬牛不相及的東西，是如何結合到一起的？我們向您介紹一款無(wú)掩膜顯微鏡LED曝光單元UTA-3A-53M，能令顯微鏡秒變光刻機！

該設備是一種具有高性?xún)r(jià)比的曝光裝置，其DLP固定在顯微鏡的三目鏡部分，而照相機則固定在目鏡部分?？梢詫?zhuān)用程序產(chǎn)生的圖案投影并在顯微鏡下曝光在樣品上。

＜特征＞ 

• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是用于光刻的無(wú)掩模圖案投影曝光設備。 

• 使用金屬顯微鏡和LED光源DLP投影儀，將分辨率為幾μm的任意圖案投影到涂有光刻膠的基板上進(jìn)行曝光。您可以在計算機上自由創(chuàng )建圖案。 

• 與電子束光刻相比，它更便宜，更容易，因為可以在空氣中在各種大小和形狀的分層材料單晶薄片上形成電極。 不需要制造昂貴的電極圖案掩模。 

• 簡(jiǎn)單易懂專(zhuān)用軟件，可以輕松創(chuàng )建圖案

• 通過(guò)物鏡倍率，可以從精細圖案到進(jìn)行大范圍的批量曝光

• 也可以安裝到現有的顯微鏡上（顯微鏡的規格另需確認）

曝光范圍：物鏡5X：約1.16×0.72mm / 物鏡100X：約60×35μｍ

通過(guò)標配以下5種畫(huà)圖工具，畫(huà)任意圖案進(jìn)行曝光

                 直線(xiàn)       　　　矩形                   多邊形    　 　             圓  　　                     同心圓

或者通過(guò)讀取外部軟件畫(huà)好的圖案進(jìn)行曝光（分辨率1280*800，BMP格式，黑白）

＜應用＞ 

? 薄膜FET的電極形成和空穴效應測量樣品 

? 從原石的石墨烯鉬中取出剝離的（?。┢?，用于評估石特性的電極形成 

? 用于研發(fā)應用的圖案形成 

? 光器件，微流控，微電子

☆曝光前可以進(jìn)行測試投影（因為是紅光，不會(huì )感光）

☆用白光曝光（曝光時(shí)間可以設置）