光學(xué)膜厚儀是利用薄膜干涉光學(xué)原理，對薄膜進(jìn)行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面，探頭同位接收反射光線(xiàn)。光學(xué)膜厚儀根據反射回來(lái)的干涉光，用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm，可同時(shí)完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜，還可以測量n和k值。

　　應用領(lǐng)域：

　　半導體制造業(yè)，光刻膠、氧化物、硅或其他半導體膜層的厚度測量；

　　生物醫學(xué)原件：聚合物/聚對二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入藥物涂層；

　　微電子：光刻膠；硅膜；氮化鋁/氧化鋅薄膜濾鏡；

　　液晶顯示器：盒厚；聚酰亞胺；導電透明膜；

　　由于是光學(xué)測量，在測量時(shí)候無(wú)須擔心破壞樣品，讓用戶(hù)簡(jiǎn)單快速地測量薄膜的厚度和光學(xué)常數，通過(guò)對待測膜層的上下界面間反射光譜的分析，幾秒鐘內就可測量結果。

 

　　光學(xué)膜厚儀的優(yōu)點(diǎn)：

　　1、非接觸式測量：光學(xué)膜厚儀采用的原理是通過(guò)光的反射原理對膜層厚度進(jìn)行測量，屬于非接觸式測量方法，不會(huì )對樣品造成任何損傷，能夠保證樣品的完整性。

　　2、測量數據多樣：可以測得物體的膜厚度和n，k數據，這是其它類(lèi)型的膜厚儀所不具備的特點(diǎn)。

　　3、測量快速：光學(xué)膜厚儀的測量過(guò)程非?？焖?，因為該設備采用了先進(jìn)的結構設計，能夠ji大程度的提升測量效率，相比于其他類(lèi)型膜厚測量設備來(lái)說(shuō)顯得非常輕巧方便。

　　4、適用范圍廣：光學(xué)膜厚儀的適用范圍非常廣泛，從普通家用到工廠(chǎng)的工業(yè)生產(chǎn)，再到大學(xué)實(shí)驗室和科學(xué)研究所，都可以看到它的身影，由此可見(jiàn)它的使用范圍極其廣泛，能夠作業(yè)的場(chǎng)合也變得更加多樣化。